CPS纳米粒度分析仪

详细资料请下站CPS产品手册

 

CPS 纳米粒度分析仪具有如下特点

粒度范围: 5-75000 纳米

  • 高分辨率、准确度和高灵敏度
  • 量测任何密度的颗粒
  • 宽动态范围
  • 比同类分析仪更快的分析速度
  • 使用自动给料器,可以实现无人看守操作
  • 自动密度梯度生成器
  • 离心机沉降方法
    纳米粒度分布图

    高分辨率、准确度和高灵敏度

资料

CPS 产品手册 Download: CPS 纳米粒度仪产品手册

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CPS 纳米粒度仪测试操作流程   化学机械抛光
CPS 纳米粒度仪测试操作流程 CPS工作程序    化学机械抛光 化学机械抛光(CMP)是电子和半导体行业常用的一种重要的工艺
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